消息称ASML新一代EUV光刻机准备就绪,具备量产条件

半导体 2026-02-27 09:34

据外媒报道,业内消息称ASML新一代高数值孔径极紫外光刻机已准备就绪,可交付芯片制造商投入量产。目前该设备停机时间大幅减少,累计加工完成50万片硅晶圆,且能刻制出芯片电路所需的高精度图案。三大指标共同表明,设备已具备量产条件。

尽管技术就绪,芯片企业仍需2至3年测试研发,才能将其整合至量产流程。当前设备稼动率约80%,ASML计划年底前提升至90%。该设备造价约4亿美元,为初代EUV机型的两倍。

简讯快报

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