应用材料与美光、SK海力士达成合作,共同推进下一代存储技术研发

存储器 网络 QIN 2026-03-11 09:55

美国当地时间3月10日,全球半导体制造设备龙头应用材料接连发布公告,宣布美光与SK海力士分别成为其位于硅谷的EPIC中心创始合作伙伴,共同推进下一代内存技术研发,助力AI及高性能计算产业发展。

应用材料与美光的合作,将聚焦开发下一代DRAM、高带宽内存(HBM)和NAND解决方案,旨在提升AI系统的能效。双方将整合应用材料EPIC中心与美光博伊西研发中心的优势,共同攻关先进封装技术,以实现高带宽、低功耗的内存解决方案。同时,应用材料与SK海力士达成长期合作协议,重点加快下一代DRAM和HBM技术的开发与部署。两家公司的工程师将在EPIC中心协同工作,推动材料创新、工艺集成及三维先进封装,以应对内存架构超越现有节点的技术挑战。

据悉,应用材料投资50亿美元新建的EPIC中心,是美国有史以来最大规模的先进半导体设备研发项目,已于今年启用。该中心从零设计,旨在大幅缩短突破性技术从早期研究到全面量产的商业化周期。对于芯片制造商而言,EPIC中心提供了更早参与应用材料研发项目的机会,有助于加快学习周期,并加速下一代技术向大规模生产的转移。

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