首批采用ASML High-NAEUV光刻机制造芯片即将问世

半导体 2026-05-21 18:32

ASML CEO傅恪礼近日正式宣布,首批采用新一代高数值孔径(High-NA)EUV光刻机制造的芯片产品将在未来数月内问世,覆盖逻辑芯片与存储芯片两大核心领域。英特尔积极采购High-NA EUV光刻机,并已在波特兰工厂完成两台High-NA EUV光刻机的安装,累计处理超过3万片晶圆,目标在2027至2028年实现14A制程大规模量产。SK海力士也明确表示计划采用该新技术,预计今年首次导入,用于下一代DRAM内存的生产。

简讯快报

更多