北方华创发布 12 英寸先进气体团簇离子束刻蚀设备 Acme Glaion130

半导体 2026-06-02 09:59

北方华创今日发布全新 12 英寸气体团簇离子束(GCIB)刻蚀设备 Acme Glaion130。该设备突破三大核心技术瓶颈,覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及 AR / VR 应用场景。与传统工艺相比,团簇离子束刻蚀精度为纳米级,方向性更佳,可实现近零损伤加工;几乎适配所有材料,工艺灵活性更高,能完成晶圆局部定点精修、任意角度刻蚀等复杂需求。

简讯快报

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