编辑:AVA 发布:2021-06-10 11:06
据悉,日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。参与该EUV光刻机研发的还有比利时的欧洲微电子中心。
东京电子表示,自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻,并有望使图案更加精细。然而,含有金属的抗蚀剂也需要复杂的图案尺寸控制以及对晶片背面/斜面金属污染的较好控制。为了应对这些挑战,涂层/开发人员正在联合高NA实验室安装先进的工艺模块,能够处理含金属的抗蚀剂。
有观点将当前ASML已经出货的NXE:3400B/3400C乃至年底的3600D称作第一代EUV光刻机,依据是物镜的NA(数值孔径)为0.33,所谓下一代也就是第二代的NA提升到0.55。0.55NA比0.33NA有着太多优势,包括更高的对比度、图形曝光更低的成本、更高的生产效率等。
EXE:5000之后还有EXE:5200,它们将是2nm、1nm的主要依托。
存储原厂 |
三星电子 | 61250 | KRW | -0.73% |
SK海力士 | 283500 | KRW | +4.61% |
铠侠 | 2547 | JPY | +3.54% |
美光科技 | 119.920 | USD | -1.85% |
西部数据 | 65.215 | USD | -1.31% |
闪迪 | 45.220 | USD | -2.56% |
南亚科技 | 48.50 | TWD | -0.82% |
华邦电子 | 18.90 | TWD | -1.05% |
主控厂商 |
群联电子 | 471.5 | TWD | -0.42% |
慧荣科技 | 73.800 | USD | -1.35% |
联芸科技 | 40.99 | CNY | +0.74% |
点序 | 51.3 | TWD | -0.39% |
品牌/模组 |
江波龙 | 83.89 | CNY | +1.68% |
希捷科技 | 148.390 | USD | -0.70% |
宜鼎国际 | 238.5 | TWD | -1.65% |
创见资讯 | 100.5 | TWD | -4.29% |
威刚科技 | 93.5 | TWD | -0.53% |
世迈科技 | 20.940 | USD | +0.34% |
朗科科技 | 24.10 | CNY | +2.34% |
佰维存储 | 65.58 | CNY | +1.64% |
德明利 | 120.97 | CNY | -0.65% |
大为股份 | 18.69 | CNY | +0.38% |
封测厂商 |
华泰电子 | 37.70 | TWD | -1.18% |
力成 | 134.0 | TWD | +0.75% |
长电科技 | 33.57 | CNY | +1.88% |
日月光 | 143.0 | TWD | -0.69% |
通富微电 | 25.24 | CNY | +1.28% |
华天科技 | 9.91 | CNY | +0.71% |
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