传三星将在EUV工艺中使用国产空白掩模

半导体 2026-01-13 10:09

据韩媒报道,三星电子正在评估韩国SNS Tech公司提供的EUV空白掩模,目标是在第二季度投入使用。目前正处于掩模评估的最后阶段,目标是在本月或下个月完成评估。三星电子一直以来都依赖进口EUV光刻掩模版,对日本的依赖程度尤其高,Hoya和Asahi Glass占据了三星大部分的供应。

简讯快报

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