英特尔完成首台“二代”High NA EUV 光刻机验收测试

半导体 2025-12-16 10:47

英特尔代工官方宣布,其已同 ASML 实现了首台“二代”High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200B 的“验收测试”。与主要用于工艺前期研发的“一代”机型 EXE:5000相比,EXE:5200B 更接近于“量产用设备”:配备了更高功率 / 剂量的 EUV 光源,晶圆吞吐量提升到每小时 175 块;套刻精度提升至 0.7nm;此外通过新的晶圆存储结构提升了整体效果的稳定性。

简讯快报

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