ASML CEO:预计 High NA EUV 光刻机 2027~2028 年用于先进制程大规模量产

半导体 2025-12-15 10:17

ASML CEO Christophe Fouquet在接受媒体专访时称,预计High NA EUV 光刻机将于 2027~2028 年正式投入先进制程的大规模量产作业中。目前在导入新一代图案化技术方面最积极的是英特尔,其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。

简讯快报

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