ASML近日宣布在极紫外(EUV)光刻技术领域取得重大突破,成功将光源功率从目前的600瓦提升至1000瓦,有望在2030年前使芯片产量提高50%。这一进展将帮助台积电、英特尔等芯片制造商显著提升生产能力,满足人工智能和高性能计算领域日益增长的需求。
EUV光刻是生产最先进芯片的关键工艺,其原理是通过激光轰击熔融锡滴产生13.5纳米波长的极紫外光。ASML NXE系列EUV设备执行副总裁特恩·范高希(Teun van Gogh)表示,到本十年末,升级后的设备每小时可处理约330片硅晶圆,较目前的220片提升50%。这将有效降低每颗芯片的生产成本,帮助客户在日益激烈的市场竞争中保持优势。
ASML首席技术专家迈克尔·珀维斯(Michael Purvis)强调,这“并非噱头,也不是那种只能维持极短时间演示的把戏”,而是能够在完全符合客户实际使用条件下稳定输出1000瓦功率的系统。
作为全球唯一的商用EUV光刻机供应商,ASML在先进半导体制造产业链中占据不可替代的位置。EUV设备需求持续走强,与人工智能应用的快速扩张密切相关。公司2025年第四季度财报显示,EUV设备签单金额达74亿欧元,同比增长146.7%。

