消息称三星2nm良率约55%,虽较去年下半年显著提升但尚无法实现稳定交付

半导体 2026-04-14 12:01

据媒体报道,三星电子目前2nm工艺制程的良率仍低于60%的量产门槛,约为55%。若进一步纳入后端加工环节,考虑性能分级及后端封测流程带来的良率损失,以最终成品计算,三星2nm的实际良率将降至约40%。值得注意的是,2025年下半年,其2nm良率仅为20%。不到一年时间提升至接近55%,进步幅度显著。但只有当良率稳定突破60%甚至更高,才能吸引关键客户下达大规模订单。

简讯快报

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