据韩媒报道,ASML将在未来几个月推出2nm芯片设备,数值孔径(NA)光学性能从 0.33 提高到 0.55。
目前EUV光刻机可以支援芯片制造商将芯片工艺推进到3nm左右,但芯片制造商如果要继续推进到2nm,甚至更小的尺寸,就需要更高数值孔径的 High-NA 光刻机。
有媒体报道称,ASML计划明年生产10台2nm芯片制造设备,而英特尔据传已经预订其中六台。
售价方面,ASML最新High-NA EUV 光刻机的价格将介于3亿至3.5亿欧元,目前热销的EUV 光刻机单价则为 1.5 亿至 2 亿美元。

