英特尔向ASML订购最先进EUV 0.55 NA设备

半导体 网络 AVA 2022-01-19 16:59

ASML与英特尔宣布了双方长期合作的最新阶段:英特尔已向 ASML 发出首个采购订单,交付业界首个 TWINSCAN EXE:5200 系统——一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统——作为两家公司的长期 High-NA 合作框架。

英特尔在 7 月的 Accelerated 活动中宣布,它计划部署首个 High-NA 技术,以实现其晶体管创新路线图。英特尔在 2018 年率先购买了较早的 TWINSCAN EXE:5000 系统,随着今天宣布的新采购,此次合作将延续英特尔从 2025 年开始使用 High-NA EUV 进行生产制造的道路。

与当前的 EUV 系统相比,创新的扩展 EUV 路线图以更低的复杂性、成本、周期时间和能量提供了持续的光刻改进,这是芯片行业在未来十年推动经济实惠的扩展所需的。

EXE 平台是 EUV 技术的一个进化步骤,包括新颖的光学设计和显著加快的掩模版和晶圆级。TWINSCAN EXE:5000 和 EXE:5200 系统提供 0.55 数值孔径——与先前配备 0.33 数值孔径透镜的 EUV 机器相比,精度有所提高——以实现更高分辨率的图案化,以实现更小的晶体管特征。系统的数值孔径与使用的波长相结合,决定了最小的可打印特征。

EUV 0.55 NA 旨在实现从 2025 年开始的多个未来节点,这是业界的第一个部署,随后是类似密度的存储技术。在 2021 年投资者日上,ASML 分享了其 EUV 路线图,并表示 High-NA 技术有望在 2025 年开始支持生产制造。

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