编辑:AVA 发布:2022-09-22 11:29
据韩媒报道,三星已经取消了增加光刻胶供应商的计划。消息人士称,该公司曾与至少四家潜在的日本供应商接触,包括世界上最大的光刻胶制造商东京应化工业,但这些公司都无法满足三星的厚度要求。到目前为止,三星电子的 3D NAND光刻胶由东进半导体独家供应。
PR是曝光过程中使用的关键材料。在曝光的过程中,根据光源的类型,使用氟化氪 (KrF) 准分子激光器、氟化氩 (ArF) 准分子激光器和浸没式 ArF 设备。在 3D NAND 闪存的情况下,将其堆叠高比像现有工艺那样缩小线宽更重要。因此,在曝光过程中,KrF比ArF使用得更多。而3D NAND 的 KrF 光刻胶的核心是厚度。
在量产第一代 3D NAND 闪存之前,三星电子与东进半导体深度合作,并公开所有工艺步骤来鼓励开发。通过两家公司的合作,东进半导体成功开发出比现有 KrF光刻胶厚 30% 的材料。
存储原厂 |
三星电子 | 80900 | KRW | +0.62% |
SK海力士 | 191800 | KRW | +0.95% |
美光科技 | 109.410 | USD | +1.82% |
英特尔 | 31.350 | USD | +0.80% |
西部数据 | 68.260 | USD | +2.66% |
南亚科 | 58.1 | TWD | -4.13% |
华邦电子 | 23.45 | TWD | -1.88% |
主控厂商 |
群联电子 | 532 | TWD | -4.83% |
慧荣科技 | 70.080 | USD | +2.04% |
美满科技 | 65.720 | USD | +2.70% |
点序 | 67.2 | TWD | -0.88% |
国科微 | 51.94 | CNY | +0.37% |
品牌/模组 |
江波龙 | 80.72 | CNY | +0.93% |
希捷科技 | 103.680 | USD | -0.27% |
宜鼎国际 | 282.5 | TWD | -3.25% |
创见资讯 | 95.8 | TWD | -2.84% |
威刚科技 | 92.3 | TWD | -3.25% |
世迈科技 | 23.170 | USD | +1.80% |
朗科科技 | 17.05 | CNY | -0.64% |
佰维存储 | 52.46 | CNY | -1.35% |
德明利 | 77.11 | CNY | +0.47% |
大为股份 | 9.23 | CNY | +1.32% |
封测厂商 |
华泰电子 | 49.4 | TWD | -4.82% |
力成 | 189 | TWD | +2.72% |
长电科技 | 32.20 | CNY | +0.34% |
日月光 | 155.5 | TWD | -9.86% |
通富微电 | 21.91 | CNY | +1.39% |
华天科技 | 8.26 | CNY | +0.61% |
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