编辑:AVA 发布:2023-09-07 10:55
据外媒报道,荷兰半导体设备制造商ASML CEO Peter Wennink 表示,该公司有望于今年推出业界首款数值孔径 (NA) 为 0.55 的极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。ASML 的 Twinscan EXE:5000 机器将主要用于开发目的,并帮助客户熟悉新技术及其功能。High-NA 工具预计将于 2025 年及以后投入商业使用。
高数值孔径(High NA) EUV 微影曝光设备仅卡车大小。与相机一样,高数值孔径(High NA) EUV 微影曝光设备将从更宽角度收集光线,解析度提高70%。对领先半导体制造商生产先进半导体芯片是不可或缺的设备,十年内生产面积更小、性能更好的芯片。
需要注意的是,0.55 NA EUV 工具不会取代当代晶圆厂中当前的深紫外 (DUV) 和 EUV 设备,就像 0.33 NA EUV 的引入并没有逐步淘汰 DUV 光刻一样。在可预见的未来,ASML 将继续推进其 DUV 和 0.33 NA EUV 扫描仪。同时,高数值孔径 EUV 光刻将在缩小晶体管尺寸和提高其性能方面发挥关键作用。
报道称, 英特尔可能会在其18A工艺技术中采用 ASML 的 High-NA 工具,台积电和三星等将在晚些时候使用它们。但这些扫描仪价格昂贵,预计每台成本可能超过3亿美元,这将进一步增加领先晶圆厂的成本。
存储原厂 |
三星电子 | 80900 | KRW | +0.62% |
SK海力士 | 191800 | KRW | +0.95% |
美光科技 | 109.410 | USD | +1.82% |
英特尔 | 31.350 | USD | +0.80% |
西部数据 | 68.260 | USD | +2.66% |
南亚科 | 58.1 | TWD | -4.13% |
华邦电子 | 23.45 | TWD | -1.88% |
主控厂商 |
群联电子 | 532 | TWD | -4.83% |
慧荣科技 | 70.080 | USD | +2.04% |
美满科技 | 65.720 | USD | +2.70% |
点序 | 67.2 | TWD | -0.88% |
国科微 | 51.94 | CNY | +0.37% |
品牌/模组 |
江波龙 | 80.72 | CNY | +0.93% |
希捷科技 | 103.680 | USD | -0.27% |
宜鼎国际 | 282.5 | TWD | -3.25% |
创见资讯 | 95.8 | TWD | -2.84% |
威刚科技 | 92.3 | TWD | -3.25% |
世迈科技 | 23.170 | USD | +1.80% |
朗科科技 | 17.05 | CNY | -0.64% |
佰维存储 | 52.46 | CNY | -1.35% |
德明利 | 77.11 | CNY | +0.47% |
大为股份 | 9.23 | CNY | +1.32% |
封测厂商 |
华泰电子 | 49.4 | TWD | -4.82% |
力成 | 189 | TWD | +2.72% |
长电科技 | 32.20 | CNY | +0.34% |
日月光 | 155.5 | TWD | -9.86% |
通富微电 | 21.91 | CNY | +1.39% |
华天科技 | 8.26 | CNY | +0.61% |
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