编辑:AVA 发布:2022-10-14 10:18
随着各大半导体厂商加速引入EUV(极紫外)工艺,相关材料市场有望进入成熟期。EUV 工艺光刻胶(PR)市场预计将翻两番,从 2021 年的 5000 万美元增长至 2025 年的 2 亿美元。
光刻胶是一种化学材料,在半导体晶片上绘制半导体电路的曝光过程是必不可少的。它具有响应光引起化学变化的特性,因此可以根据光线照射的区域创建特定的图案。根据曝光过程中使用的光的波长,分为氟化氪(KrF)、ArF(氟化氩)和用于EUV的PR。
其中,EUV光刻胶与其他光刻胶相比,市场规模非常小。EUV是一种尖端工艺技术,与现有光源相比,有利于实现半导体超精细电路,长期以来一直没有应用于大规模生产。大约在 2019 年左右,主要代工厂三星电子和台积电开始量产基于 EUV 工艺的芯片。
但近期,随着多家半导体厂商的投资,EUV工艺的引入正在加速,相关材料市场也有望呈现高增长。EUV 的光刻胶市场规模预计将从 2021 年的 5000 亿美元到 2025 年超过 2 亿美元。
新开发的EUV光刻胶包括金属氧化物光刻胶和干式光刻胶。与传统的基于聚合物的抗蚀剂相比,金属氧化物抗蚀剂具有出色的光吸收性,并且能够进行精确蚀刻。抗蚀剂比传统的湿法抗蚀剂具有更高的分辨率,并且可以显著降低生产成本。
各大光刻胶厂商也在通过联合研发和并购增强市场竞争力。日本JSR作为光刻胶市场的领头羊,继去年收购了美国金属氧化物光刻胶公司Inpria后,今年决定与SK海力士推进联合研发。据了解,三星电子也在继续推动Inpria光刻胶的引进。韩国东进半导体也准备将EUV光刻胶商业化。
存储原厂 |
三星电子 | 80900 | KRW | +0.62% |
SK海力士 | 191800 | KRW | +0.95% |
美光科技 | 109.410 | USD | +1.82% |
英特尔 | 31.350 | USD | +0.80% |
西部数据 | 68.260 | USD | +2.66% |
南亚科 | 58.1 | TWD | -4.13% |
华邦电子 | 23.45 | TWD | -1.88% |
主控厂商 |
群联电子 | 532 | TWD | -4.83% |
慧荣科技 | 70.080 | USD | +2.04% |
美满科技 | 65.720 | USD | +2.70% |
点序 | 67.2 | TWD | -0.88% |
国科微 | 51.94 | CNY | +0.37% |
品牌/模组 |
江波龙 | 80.72 | CNY | +0.93% |
希捷科技 | 103.680 | USD | -0.27% |
宜鼎国际 | 282.5 | TWD | -3.25% |
创见资讯 | 95.8 | TWD | -2.84% |
威刚科技 | 92.3 | TWD | -3.25% |
世迈科技 | 23.170 | USD | +1.80% |
朗科科技 | 17.05 | CNY | -0.64% |
佰维存储 | 52.46 | CNY | -1.35% |
德明利 | 77.11 | CNY | +0.47% |
大为股份 | 9.23 | CNY | +1.32% |
封测厂商 |
华泰电子 | 49.4 | TWD | -4.82% |
力成 | 189 | TWD | +2.72% |
长电科技 | 32.20 | CNY | +0.34% |
日月光 | 155.5 | TWD | -9.86% |
通富微电 | 21.91 | CNY | +1.39% |
华天科技 | 8.26 | CNY | +0.61% |
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