佳能投资3.5亿美元兴建工厂，提高半导体曝光设备产能

据日媒报道，佳能将在日本栃木县宇都宫工厂的7万平方米空地上建设新工厂，生产半导体曝光设备。该工厂将耗资约3.53亿美元，将于2025年春季开始运营。佳能目前分别在日本宇都宫市和茨城县生产曝光设备。

曝光是指用光在半导体晶片上雕刻电路的操作。它被认为是最先进的微处理的核心技术。佳能在曝光设备制造业中以 30% 的市场份额位居第二。第一名荷兰的 ASML（60%）。

佳能 21 年来首次建设新工厂，很大程度上受到了对半导体需求将增加的预测的影响。Nihon Keizai分析，今年半导体曝光设备的预期销量为 180 台，较上年增长 29%。在过去的 10 年里，几乎翻了两番。佳能计划提高产能以应对不断增长的需求。

佳能也在开发“纳米压印”技术。纳米压印是一种像绘画一样在晶圆上压印电路的技术。它的优点是能够以比传统方法雕刻微电路成本更低。佳能计划利用这项技术开发下一代设备。