编辑:AVA 发布:2022-09-27 10:07
据外媒报道,ASML首席技术官Martin van den Brink近日表示,他相信在不久的将来,可能会走到目前半导体光刻技术的尽头。
ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。如果一切按计划进行,ASML计划在2024年向其客户交付第一台研发机器,随后在2025年某个时候交付第一批使用High-NA的批量生产机器。
新的High-NA扫描仪将非常复杂,非常大,而且昂贵——每台扫描仪的成本将超过4亿美元。High-NA不仅需要新的光学设备,新的光源,甚至需要新的芯片来容纳更大的机器,这将需要大量的投资。但为了保持半导体的性能、功率、面积和成本(PPAc),领先的逻辑芯片和存储设备制造商愿意采用新技术,High-NA EUV扫描仪对于后3nm节点至关重要。
Van den Brink指出,由于当前供应链的不确定性,再加上ASML对其EUV机器的需求量很大,由于两种技术共享大量组件,可能会影响时间安排。因此,当前订单是优先事项,如果需要,High-NA开发可能会被搁置一旁。据介绍,High-NA扫描仪预计比EUV机器耗电更大,因此预计在各个阶段将耗电约2兆瓦。半导体光刻技术发展的下一步将会比较艰难,因为ASML目前称之为hyper-NA的设备的制造和使用成本将高得令人望而却步。
存储原厂 |
三星电子 | 80900 | KRW | +0.62% |
SK海力士 | 191800 | KRW | +0.95% |
美光科技 | 109.410 | USD | +1.82% |
英特尔 | 31.350 | USD | +0.80% |
西部数据 | 68.260 | USD | +2.66% |
南亚科 | 58.1 | TWD | -4.13% |
华邦电子 | 23.45 | TWD | -1.88% |
主控厂商 |
群联电子 | 532 | TWD | -4.83% |
慧荣科技 | 70.080 | USD | +2.04% |
美满科技 | 65.720 | USD | +2.70% |
点序 | 67.2 | TWD | -0.88% |
国科微 | 51.94 | CNY | +0.37% |
品牌/模组 |
江波龙 | 80.72 | CNY | +0.93% |
希捷科技 | 103.680 | USD | -0.27% |
宜鼎国际 | 282.5 | TWD | -3.25% |
创见资讯 | 95.8 | TWD | -2.84% |
威刚科技 | 92.3 | TWD | -3.25% |
世迈科技 | 23.170 | USD | +1.80% |
朗科科技 | 17.05 | CNY | -0.64% |
佰维存储 | 52.46 | CNY | -1.35% |
德明利 | 77.11 | CNY | +0.47% |
大为股份 | 9.23 | CNY | +1.32% |
封测厂商 |
华泰电子 | 49.4 | TWD | -4.82% |
力成 | 189 | TWD | +2.72% |
长电科技 | 32.20 | CNY | +0.34% |
日月光 | 155.5 | TWD | -9.86% |
通富微电 | 21.91 | CNY | +1.39% |
华天科技 | 8.26 | CNY | +0.61% |
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