LG Chem 开发用于半导体后处理的光刻胶

据韩媒报导，LG Chem 已开始开发用于半导体后端工艺的光刻胶 (PR)，旨在将其供应给全球半导体公司。

韩国现已成功实现半导体全工艺关键材料极紫外（EUV）PR的本地化，并正在开发PR以扩大对后端工艺的需求。韩国企业正在积极进入以日本为首的半导体材料市场。

LG Chem 计划基于自己的技术开发后处理 PR，并将其提供给半导体公司。鉴于开发尚处于起步阶段，预计将需要一些时间。预计将在现有材料开发成果的基础上加快开发和供应。