ASML第一台高NA EUV光刻机到货,英特尔向1.8nm工艺迈进

半导体 网络 Andrew 2024-01-08 11:18

据媒体报道,英特尔宣布位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,型号为“Twinscan EXE:5000”。

据悉,这台最先进的EUV光刻机将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺,也就是1.8nm级别。

报道称,新款光刻机的价格估计至少3亿美元,甚至可能达到或超过4亿美元,ASML将在2024年生产最多10台新一代高NA EUV光刻机,其中Intel就定了多达6台。

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