南大光电:公司ArF光刻胶产品已通过存储芯片/逻辑芯片制造企业验证

半导体 OFweek电子工程网 Cynthia 2022-04-15 09:59

南大光电在接受机构调研时表示,公司研发的ArF光刻胶主要定位于90nm-28nm集成电路的制程应用,公司ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证,目前多款产品正在多家客户同时进行认证。

南大光电表示,目前公司有多款ArF光刻产品在国内大型芯片制造企业进行测试。光刻胶是客制化产品,技术含量高,验证周期长,且体量不大。因为是替代进口,所以公司研发的产品需要适应客户端的工艺参数,留给公司的调整空间很小,所以验证难度大。目前验证进展顺利,预计今年年底会有几款产品通过验证。公司也将抓紧推进市场拓展工作,争取尽快实现批量销售。

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