抢占内嵌式商机 美光推eMMC与EZ-NAND应用

厂商动态 中国闪存市场 Helan 2010-03-02 11:16
美系内存大厂美光(Micron)日前正式推出25奈米NAND Flash制程,预计于2010年中量产,竞争对手三星电子(Samsung Electronics)和海力士(Hynix)亦不甘示弱推出27奈米、26奈米制程技术;美光NAND Flash营销总监Kevin Killbuck指出,随着内嵌式应用兴起,除eMMC之外,美光也将推出EZ-NAND应用,瞄准可携式产品和消费性电子,未来NAND Flash技术更将演进至Sub-25奈米和10奈米制程,并发展CTF架构技术。
在2006~2007期间,三星电子和东芝(Toshiba)分别处于技术领先的地位,美光和英特尔(Intel)的IM Flash是在2009年正式量产34奈米制程技术后,才一举追赶过竞争对手,勇夺NAND Flash市场技术领先的桂冠,自此之后,美光和英特尔都处于领先的地位。
美光的NAND Flash技术演进分别是最早实验室阶段的90奈米、72奈米、50奈米、34奈米,直到目前最新的25奈米制程,中间分别跳过60奈米和40奈米世代。而随着美光推出25奈米制程,三星和海力士也分别拿出27奈米和26奈米技术应战,未来NAND Flash大厂技术之战,在20奈米世代将更加激烈。。
根据美光的技术蓝图规画,在25奈米制程技术以下,美光分为2组技术进行,一是Sub-25奈米,另一是10奈米制程技术,其中Sub-25奈米制程预计2011年量产,但也要视10奈米制程技术的进度,而随时调整Sub-25奈米技术的进度,因为10奈米制程以下技术对于半导体业者是相当艰巨的挑战。
目前NAND Flash技术都是采用浮闸架构(floating-gate structure)架构,但到了10奈米制程世代后,浮闸架构技术面临非常大的挑战,多家NAND Flash大厂改用电荷撷取闪存(Charge Trap Flash;CTF)技术,但目前仅止于研发阶段。此外,3D Flash技术也是未来的趋势之一。
而东芝和三星都趋之若鹜的3-bit-per-cell架构的TLC技术,Killbuck则表示,美光的TLC产品会在2010年第4季才问世,因为美光在34奈米和25奈米MLC(Multi-Level-Cell)技术上,成本结构竞争力足以媲美对手30奈米制程TLC技术,因此并没有转进TLC技术的急迫性。
在NAND Flash应用方面,Killbuck表示,美光未来枪积极推广eMMC和EZ-NAND应用,其中随着ONFI组织推出EZ-NAND架构后,美光也将跟进。根据EZ-NAND架构是零ECC的设计,解除控制芯片不断要求ECC要进步的负担,ONFI 3.0规格和对于EZ-NAND的支持,可望于2010年中出炉,未来EZ-NAND应用将以可携式消费性电子产品为主。
NAND Flash芯片已取代DVD成为储存媒介的主流,8GB内存可储存2,000首歌、7,000张照片或8小时的动态影像。
在eMMC方面,目前美光有34奈米制程技术的eMMC产品,2010年出也将会推出25奈米制程的eMMC产品,未来将应用在手机和卫星导航系统等领域。

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