为加强供应ASML，Gigaphoton扩充DUV光源设备产能

据日媒报道，日本半导体设备厂Gigaphoton正在日本栃木县兴建新厂房，扩充深紫外光（DUV）曝光设备的光源设备的产能，投资额50亿日圆（约3,500万美元），目标2023年内完工。

这是Gigaphoton持续扩充产能规划的一部分。Gigaphoton在2022年4月就已完工一栋厂房，并腾出研发用的产线投入量产，以扩充产能。再加上目前正在兴建、预定2023年内完工的新厂房，届时Gigaphoton在DUV曝光机光源设备的产能，将扩大为2020年度（2020/4~2021/3）时的2.5倍。如此一来，将可增强对于重要客户ASML等的供应能力。

截止2022年，Gigaphoton累计已出货2,000台以上的半导体曝光设备准分子镭射（Excimer Laser）设备。而2022全年销量接近200台。

Gigaphoton的目标是到2030年，累计出货4,000台，年销量300台，在DUV曝光机光源设备市场取得6成市占。目前Gigaphoton与ASML购并的Cymer，均分了DUV曝光机光源设备的市场。

ASML是Gigaphoton的重要客户，虽然ASML是目前全球唯一的极紫外光（EUV）曝光机制造商，也正在发展最先进的EUV半导体制程曝光技术，且子公司Cymer也在生产DUV光源设备，但Gigaphoton认为，DUV方面的需求，还有成长的空间。

另外，Gigaphoton的营收25%来自台湾地区，15%来自大陆地区。因此是否会遭遇地缘冲突风险，仍很难预测。尤其Gigaphoton希望从检测领域切入EUV光源设备市场，然而EUV领域涉及先进制程芯片，是半导体出口管制的重点。