三星成功研发EUV光罩护膜，透光率88%

据韩媒报道，三星于2022年底已完成透光率达88%的光罩护膜研发，并掌握量产技术。业界指出，三星投入EUV光罩护膜研发，主要为了应对未来需求和供应多元化。

光罩护膜用于半导体曝光制程，可以大幅减少制程污染，减少光罩损伤。EUV用光罩价格达数亿韩元（1亿韩元约8万美元），使用光罩护膜可降低成本，特别是在5nm以下先进制程，光罩管理开始受到重视，光罩护膜的需求也相应提升。

目前EUV光罩护膜市场由独家供应EUV曝光设备的荷兰ASML、及日本三井化学（Mitsui Chemicals）主导。随着光罩护膜的需求因EUV制程普及而提升，对海外厂商的依赖度将提高，为了供应链的稳定，需先行展开投资。

据悉，台积电也为了确保EUV用光罩护膜投入产品研发，业界预测，2023年EUV光罩护膜需求将比2022年增加近2倍。