编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 55700 | KRW | 0.00% |
| SK海力士 | 184400 | KRW | +3.42% |
| 铠侠 | 1870 | JPY | +3.14% |
| 美光科技 | 79.780 | USD | +3.05% |
| 西部数据 | 40.780 | USD | +1.52% |
| 闪迪 | 32.850 | USD | +1.73% |
| 南亚科 | 37.00 | TWD | -1.07% |
| 华邦电子 | 15.80 | TWD | +2.60% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 454.0 | TWD | +4.25% |
| 慧荣科技 | 45.110 | USD | +2.38% |
| 联芸科技 | 40.80 | CNY | +0.62% |
| 点序 | 55.0 | TWD | +8.27% |
| 国科微 | 69.47 | CNY | +4.40% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 77.45 | CNY | +0.61% |
| 希捷科技 | 82.700 | USD | -0.41% |
| 宜鼎国际 | 237.0 | TWD | +1.07% |
| 创见资讯 | 103.0 | TWD | -1.44% |
| 威刚科技 | 82.6 | TWD | +2.23% |
| 世迈科技 | 17.230 | USD | +1.35% |
| 朗科科技 | 23.96 | CNY | +1.48% |
| 佰维存储 | 61.42 | CNY | +1.62% |
| 德明利 | 128.10 | CNY | +0.56% |
| 大为股份 | 13.81 | CNY | 0.00% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 30.95 | TWD | -0.80% |
| 力成 | 111.5 | TWD | -2.19% |
| 长电科技 | 33.00 | CNY | +0.58% |
| 日月光 | 137.5 | TWD | +3.77% |
| 通富微电 | 25.43 | CNY | +0.91% |
| 华天科技 | 9.84 | CNY | +0.72% |
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