编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 55500 | KRW | -1.07% |
| SK海力士 | 205000 | KRW | 0.00% |
| 铠侠 | 2012 | JPY | +0.35% |
| 美光科技 | 99.410 | USD | -2.45% |
| 西部数据 | 64.060 | USD | -1.25% |
| 南亚科 | 25.85 | TWD | +0.39% |
| 华邦电子 | 13.80 | TWD | +0.73% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 472.0 | TWD | -1.67% |
| 慧荣科技 | 55.170 | USD | -1.68% |
| 联芸科技 | 43.20 | CNY | +0.02% |
| 点序 | 41.10 | TWD | -2.03% |
| 国科微 | 60.01 | CNY | +0.10% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 81.01 | CNY | -2.26% |
| 希捷科技 | 88.690 | USD | -1.02% |
| 宜鼎国际 | 211.0 | TWD | 0.00% |
| 创见资讯 | 86.5 | TWD | +1.05% |
| 威刚科技 | 76.0 | TWD | -1.68% |
| 世迈科技 | 19.130 | USD | -3.58% |
| 朗科科技 | 19.05 | CNY | -5.65% |
| 佰维存储 | 58.13 | CNY | -1.46% |
| 德明利 | 89.42 | CNY | -2.02% |
| 大为股份 | 14.45 | CNY | -3.79% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 32.00 | TWD | -2.44% |
| 力成 | 120.5 | TWD | +0.84% |
| 长电科技 | 40.35 | CNY | +7.06% |
| 日月光 | 168.5 | TWD | +1.51% |
| 通富微电 | 28.22 | CNY | +2.47% |
| 华天科技 | 10.99 | CNY | +1.29% |
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