编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 57100 | KRW | -0.35% |
| SK海力士 | 200000 | KRW | -2.44% |
| 铠侠 | 2335 | JPY | +0.09% |
| 美光科技 | 95.410 | USD | -3.47% |
| 西部数据 | 49.020 | USD | -5.58% |
| 南亚科 | 40.85 | TWD | -1.45% |
| 华邦电子 | 18.85 | TWD | 0.00% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 539 | TWD | +0.75% |
| 慧荣科技 | 56.850 | USD | -3.32% |
| 联芸科技 | 58.00 | CNY | +7.13% |
| 点序 | 74.8 | TWD | -4.96% |
| 国科微 | 83.38 | CNY | -1.51% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 102.85 | CNY | -0.59% |
| 希捷科技 | 100.080 | USD | -0.76% |
| 宜鼎国际 | 259.5 | TWD | -1.52% |
| 创见资讯 | 89.2 | TWD | -1.11% |
| 威刚科技 | 86.5 | TWD | +0.12% |
| 世迈科技 | 20.880 | USD | -2.20% |
| 朗科科技 | 26.20 | CNY | -0.80% |
| 佰维存储 | 69.15 | CNY | -2.05% |
| 德明利 | 148.50 | CNY | +0.92% |
| 大为股份 | 19.05 | CNY | +0.11% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 37.80 | TWD | 0.00% |
| 力成 | 131.5 | TWD | -1.13% |
| 长电科技 | 40.64 | CNY | -0.47% |
| 日月光 | 176.0 | TWD | -2.76% |
| 通富微电 | 31.40 | CNY | -0.70% |
| 华天科技 | 11.78 | CNY | -0.17% |
深圳市闪存市场资讯有限公司 客服邮箱：Service@ChinaFlashMarket.com
CFM闪存市场（ChinaFlashMarket） 版权所有 Copyright©2008-2023 粤ICP备08133127号-2
