尼康即将发布新型ArF浸没式扫描仪：整体生产率提高10-15%

据日媒报道，尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪“NSR-S636E”，作为关键层的曝光系统，该系统具有公司历史上最高的生产率，并具有高水平的套印精度和吞吐量。

该扫描仪提高了在线对准站（iAS）的测量精度，在曝光前对晶圆进行高速、高精度的多点测量，从而可以校正网格误差。尼康声称，它可以以较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形，并实现了高重叠精度（MMO ≤ 2.1 nm）。

此外，吞吐量已增加至每小时280 发，并且通过减少停机时间，与当前型号相比，整体生产率提高了10-15%，已达到该司半导体光刻设备中最高的生产率水平。

此外，尼康表示，曝光设备在不牺牲生产率的情况下，在需要高重叠精度的半导体制造工艺中具有优异的性能，例如三维半导体，作为提高半导体性能的方法，这些工艺正在进一步进行技术开发。该公司表示，将针对半先进逻辑和存储器以及CMOS图像传感器和3D NAND等三维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。