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据韩媒报道，当地时间9日，SK海力士清州工厂泄露了一种液体化学品，事故发生之后员工进行了撤离，无人员伤亡。

SK海力士在清州的工厂主要是NAND Flash产线，目前有M11、M12和M15三座Fab厂。

据悉，泄露的物质为用于半导体晶圆的涂覆材料，简称TDMAT。资料显示，四（二甲胺基）钛 (TDMAT) 是一种液相化学源，适合于氮化钛膜的化学气相沉积。TiN 膜是 IC 应用的有效扩散阻挡层。在半导体制程应用中，氮化钛膜是有效的扩散阻挡层。

业内人士表示，这是一种危害很小的化学物质，并且，事故发生过程中，产线生产也没有中断。