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美光近日宣布了一项重大投资计划，将在日本广岛县建设一座新的DRAM芯片制造工厂。根据日媒报导，这座新厂预计最快将于2027年底开始运营。

新厂的总投资额预计在6,000亿至8,000亿日元（约合38至51亿美元）。这一投资将用于建设一个先进的制造设施，其中包括安装极紫外微影（EUV）设备，这是一种用于生产最先进芯片的技术。

日本政府对于这一项目给予了大力支持，去年已经批准了高达1,920亿日元，约13亿美元的补贴，以支持美光在广岛生产新一代的芯片。这笔资金将由经济产业省管理，旨在帮助美光引进ASML的EUV设备，这些设备将用于生产关键性的芯片，这些芯片是驱动生成式人工智能、数据中心和自动驾驶技术的核心。

美光科技原本计划在2024年启动新厂的运营，但由于市场状况的变化，公司对计划进行了调整。美光科技自2013年收购了日本DRAM大厂Elpida后，在日本已经拥有超过4,000名工程师和技术人员，这一新厂的建立将进一步增强公司在该地区的研发和生产能力。

这座新厂的建立不仅对美光科技具有重要意义，也将对日本半导体产业产生深远影响，有望提升日本在全球半导体市场的竞争力。