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美光科技宣布将向日本引入极紫外 (EUV) 技术，利用这一技术制造其下一代DRAM，1-gamma (1γ) 节点。美光将成为第一家将 EUV 技术引入日本进行生产的半导体公司，其广岛工厂在该公司 1-gamma 节点的开发中发挥了关键作用。

美光预计未来几年将在1-gamma工艺技术上投资高达5000 亿日元（约合36.3亿美元），并得到日本政府的密切支持，以实现下一波端到端技术创新，例如迅速兴起的生成人工智能（人工智能）应用程序。据称，美光科技公司从日本政府获得约2000亿日元（约合14.5亿美元）的财政补贴。

随着工艺技术的不断进步以扩展存储单元和提高性能，美光提高了存储密度，提高了能效，并降低了每位成本，从而有助于为数字化、可持续性和绿色转型以及自动化创造新的机会。1-gamma 的推出是在美光 1-beta (1β) 的开发之后推出的，后者是当今业界最先进的 DRAM 节点，美光在其广岛工厂大规模生产。美光继续在其 EUV 集成计划上取得进展，并预计从 2025 年起将在台湾地区和日本采用EUV技术量产1-gamma 节点。

EUV光刻是世界上最复杂的半导体制造工艺。美光将 EUV 集成到其下一个节点中将发挥关键作用，使该节点能够提供更快、更节能和更高性能的内存产品，并将使公司能够进一步不懈地追求行业领先的内存创新。

美光1-gamma 节点紧随公司行业领先的 1-beta 节点之后，美光于去年 11 月开始向移动制造商提供样品。为了巩固行业领先地位，美光现已开始向亚洲、美国和欧洲的工业、汽车和消费者客户发货其在广岛制造的基于1-beta 的 LPDDR5X 内存。该产品可为人工智能、智能车辆和虚拟现实提供低功耗和高性能。

美光在日本的多个工厂，包括其在广岛的工厂，是其研发路线图和大规模生产的核心，用于美光在其产品线中的尖端 DRAM 技术。美光在日本拥有 4,000 多名工程师和技术人员，致力于推动日本的劳动力发展和半导体生态系统，并在过去五年中在日本雇佣了 1,500 多名新员工。