南亚科追加资本支出约2.19亿美元,建设10nm试产线
编辑:AVA 发布:2020-05-06 18:17DRAM厂商南亚科董事会决议追加新台币65.6亿元(约2.19亿美元)资本支出预算,主要因应建置10nm级制程试产线。
2020年初南亚科已完成自主研发 10 纳米级 DRAM 技术,将在今年下半年试产,用于自产 DDR4/LPDDR4/DDR5等DRAM。根据规划,南亚还会继续研发第二代 10nm 级工艺,预计 2022年可量产,同时开发第三代10nm级工艺。
因应10nm级制程研发及试产,加上20nm递延的资本支出,南亚科董事会于2月26日通过今年度资本支出预算案,金额以不超过92亿元新台币为上限。
DRAM厂南亚科4月营收56.2亿元新台币,环比增长4.93%,同比增长36.7%,创下近18 个月新高。目前 DRAM 市况稳定,南亚科预期此现象将延续到本季,甚至第 3 季,并看好 5G 布建需求动能将持续。
为建置10nm级制程试产线,南亚科董事会决议新增今年度资本支出预算,金额以不超过65.6亿元新台币为上限,南亚科今年资本支出预算以不超过157.6亿元新台币为上限。