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英特尔大连芯片厂十月投产65纳米工艺生产芯片组

编辑:Helan   发布:2010-02-08 14:02
  英特尔近日宣布,其大连芯片厂将在2010年10月份如期投产。大连芯片厂将采用65纳米工艺生产300毫米芯片组。
  2007年3月,英特尔宣布投资25亿美元在大连建立一个生产300毫米的晶圆厂。
  当时,英特尔总裁兼CEO保罗欧德宁表示,“英特尔大连厂是英特尔15年来第一次在全新的地点兴建晶圆厂。在根植中国的22年中,英特尔在封装测试和研发等领域在中国的投资已经累计超过13亿美元。此次新投资将使我们在中国的投资总额达到了40亿美元,从而使英特尔称为中国投资额最大的跨国公司之一。”
  2007年9月,英特尔大连芯片厂奠基开建。这是英特尔在全球的第八个,亚洲第一个300毫米晶圆厂。据悉,英特尔大连芯片厂总投资达到25亿美元,总使用面积达到16.3万平方米,内含1.5万平方米的无尘室。
  2009年6月,英特尔宣布大连芯片厂将以65纳米制造工艺代替90纳米制造工艺。这也是目前英特尔在中国可以采用的最先进的制造工艺。
  在2009年,英特尔大连芯片厂建设取得了重大进展:2009年全面按计划完成建设任务。全年完成15.8万平方米的厂房和基础配套建设工程;综合办公楼落成启用;生产设备开始安装调试;员工规模达到了1000人。
  据英特尔大连芯片厂总经理柯必杰介绍,英特尔大连芯片厂的准备工作有条不紊,生产设备已陆续安装调试到位,而200多人的外籍专家团队和在美国培训的中国员工也已经回归大连,确保十月份工厂投产。
企业信息
中国公司
公司名称:
英特尔
地点:

上海市闵行区紫星路 880 号

成立时间:
1968年
所在地区:
上海
联系电话:
+86 021 6116-5000

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