力成与华邦电子合作开发2.5D CoWoS及3D先进封装业务
编辑:AVA 发布:2023-12-21 09:51封测大厂力成宣布与华邦电子签订合作意向书,共同开发2.5D (CoWoS:Chip on Wafer on Substrate)/3D先进封装业务,旨在满足市场对2.5D CoWoS及3D 先进封装的强烈需求并超越客户期待。
力成强调,与华邦电子的合作方式,将采由力成提供所需的2.5D 及3D先进封装服务,包括但不限于Chip on Wafer、凸块(Bumping)及矽穿孔(TSV, Through Silicon Via) via-reveal 封装等,力成科技将优先推荐客户使用华邦电子的硅中介层(Silicon-Interposer)及其他产品,包括DRAM及Flash等以完成前述的先进封装服务,进而达成异质整合以满足市场对高宽频及高效能运算的服务需求。
华邦电子表示,该公司崭新一代的硅中介层技术,是其在开发CUBE DRAM 系列的伴随产品,不仅实现高效能AI 边缘运算,更结合了力成科技在2.5D 和3D 的异质整合封装技术。这不仅强化了产品的高宽频性能,还降低了数据传输所需的电力,从而迎合AI 时代对高速运算及低耗能的期望和需求。