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DRAM与Flash转佳 力成明年Q1保持年成长

编辑:Helan   发布:2016-11-21 10:43

力成科技第4季在NAND Flash、Mobile DRAM与图形Graphic DRAM的需求强劲、西安厂标准型DRAM的产出持续放量,本季营收有望维持季成长。在DRAM第4季标准型存储器报价仍走升的预期声中,将减少28nm晶圆供货不及、力成逻辑IC本季贡献度减少的影响,初估力成第4季毛利率就算是减少、幅度亦有限。而展望2017年第1季,在西安厂持续投产、手机储存eMCP带动Flash的挹注,明年初淡季不淡,并较2016年同期成长。

(一) 力成Q4营收季成长,毛利率因产品结构不同而略有变动:

在产能利用率大幅提升,力成第3季毛利率22.5%、季增1个百分点,税后盈余13.3亿元、季增18%、年增21%,符合预期。

展望第4季,受惠于NAND Flash、Mobile DRAM与Graphic DRAM需求强劲、西安厂标准型DRAM产出持续放量。尽管逻辑产品线营收将因28nm晶圆供货不及而小幅下滑,但是法人仍预估,力成第4季营收季增2%至130亿(新台币,下同),封装与测试产能利用率仍维持在相对高峰,有可能小幅季增。

高毛利率的逻辑IC营收比重降低,第4季毛利率也可能小幅下滑。

(二) 力成西安厂产出量快速增加,挹注成长:

力成为主要客户美光(Micron)接单Mobile DRAM的封装与测试、标准型DRAM封装、NAND Flash封装。

西安厂的DRAM封装实际产出,由2016年6月单月产出约2000万颗,迄10月份产出已跳升至单月5000万颗。预期将持续逐月放量至2017的第一季的单月1亿颗。力成中国西厂产出量快速增加。
(三) 力成2017年动力来自Flash用量增、SSD渗透率提升:

展望2017年成长动能,主要来自NAND Flash受惠于手机的eMCP搭载量倍增,以及SSD(固态硬盘)渗透率大幅提升,此外,客户之一的Intel(英特尔)大连新厂开始量产3D NAND,以及高阶封装Bumping月产能倍增至7.4万片、产能利用率维持9成以上。

而2016年资本支出150亿元,已用于Bumping、NAND高阶测试、西安厂DRAM封装产能扩充,让力成西安厂的封装产能大增,预计2017年月产能力将挑战至1亿颗,也是力成明年的营收动力之一。

企业信息
公司总部
公司名称:
力成
地点:

新竹县30352湖口乡新竹工业区大同路10号

成立时间:
1997年
所在地区:
台湾
联系电话:
(03) 5980300

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