编辑:Helan 发布:2018-10-23 08:56
三星电子(Samsung Electronics)与SK海力士(SK Hynix)双双投入极紫外光(EUV)技术的DRAM制程研发,欲在存储器市场取得更大领先。日前三星电子宣布已完成技术研发,即将进入EUV商用化阶段,引起业界关注后续发展。
据韩媒Business Post报导,三星电子日前表示即将在7纳米系统半导体代工生产启用EUV技术,后续也会将EUV技术延伸到DRAM生产。三星是目前唯一成功在系统半导体导入EUV制程的业者,将EUV技术用在DRAM领域将指日可待。
三星电子表示,准备从10纳米中段(1y)DRAM开始采用EUV技术,逐渐扩大到10纳米以下制程,提高超高速、超大容量DRAM产品的技术竞争力。
SK海力士最近发表利川新工厂兴建计画,也松口会提高投资规模,采用最新EUV技术进行生产。韩国业界表示,SK海力士持续进行EUV技术研发,待工厂完工时应可顺利与新技术接轨。
以EUV技术生产DRAM在存储器市场将相当具有竞争力,因为产品不但能提高性能与电力效率,芯片体积也可缩小,使每片晶圆可生产的芯片数量增加,有效节省生产成本。DRAM价格易受市场景气影响波动,对业者而言,降低生产成本至关重要。
目前为止DRAM业者的技术水平差距不大,产品性能也未存在太大差异,使业者之间只能不断进行激烈的价格竞争。但若三星电子与SK海力士采用EUV技术生产DRAM,所提高的产品水平将更易于满足客户需求。
尤其人工智能(AI)服务器与自驾车等新兴科技领域对DRAM的质量要求提高,订单恐会涌向生产技术领先的DRAM业者。相较于美光(Micron)对采用EUV技术态度较为消极,三星电子与SK海力士积极以新技术欲维持领先。
三星电子表示,在半导体生产采用EUV技术之后,将可让5G、AI、物联网(IoT)等领域的技术发展速度加快,后续将会扩大EUV技术应用,提供客户更完善的产品服务。
韩国分析师预测,2019年起半导体业者将调整策略,减少DRAM方面的投资,有助市场景气维持良好。亦即包括三星电子、SK海力士在内的DRAM业者会放慢DRAM投资脚步。
存储原厂 |
三星电子 | 53500 | KRW | +0.94% |
SK海力士 | 169600 | KRW | +0.65% |
铠侠 | 1580 | JPY | -7.33% |
美光科技 | 90.120 | USD | +3.48% |
西部数据 | 60.240 | USD | +1.04% |
南亚科 | 31.00 | TWD | +1.97% |
华邦电子 | 15.20 | TWD | +1.33% |
主控厂商 |
群联电子 | 479.5 | TWD | +3.34% |
慧荣科技 | 53.900 | USD | +1.26% |
联芸科技 | 43.73 | CNY | +2.05% |
点序 | 45.30 | TWD | +0.67% |
国科微 | 72.50 | CNY | -1.53% |
品牌/模组 |
江波龙 | 93.95 | CNY | -1.38% |
希捷科技 | 87.310 | USD | -0.26% |
宜鼎国际 | 214.5 | TWD | +1.90% |
创见资讯 | 90.3 | TWD | +1.46% |
威刚科技 | 79.0 | TWD | +0.13% |
世迈科技 | 18.510 | USD | +0.82% |
朗科科技 | 22.03 | CNY | -3.50% |
佰维存储 | 65.70 | CNY | -2.87% |
德明利 | 90.40 | CNY | -2.16% |
大为股份 | 12.54 | CNY | -4.13% |
封测厂商 |
华泰电子 | 34.60 | TWD | +1.76% |
力成 | 124.5 | TWD | +2.47% |
长电科技 | 39.03 | CNY | -2.38% |
日月光 | 160.5 | TWD | +1.90% |
通富微电 | 29.43 | CNY | -2.49% |
华天科技 | 11.93 | CNY | -2.21% |
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